如何清除塵埃及其他雜質

　　承印材料要達到印刷可接受的水準，不僅要求消除其表面的靜電電荷，更重要的是清除表面吸附的所有塵埃與其他雜質。消除電荷后，承印材料對塵埃的吸附能力可立即消失，并能避免再次吸附周圍環境中的塵埃，但這并不等于其表面已吸附的塵埃等雜質已被去除，因此還必須配合采用其他措施。

　　最簡易的方法是在消除靜電電荷后，隨即用毛刷清掃。但這種方法只能清除較大的顆粒，清除不徹底。

　　較為有效的方法是采用超聲波發生器產生強大的壓縮氣流，通過與紙卷幅面同樣寬度并非常接近紙卷的噴嘴，將壓縮空氣吹至承印材料表面，產生類似于氣刀的作用，掃凈塵埃。它的作用就如同真空吸塵器，塵埃不會再回到承印材料表面。各種不同牌號的噴嘴雖然幾何輪廓各異，但都以其自有的專利技術使氣流達到了極高的速度，某些噴嘴產生的氣流速度能達到每小時560公里以上，可有效清除附著在承印材料表面的塵埃顆粒。

　　除上述靠強大壓縮氣流來清除塵埃顆粒的方法外，尚有采用膠帶清除顆粒的方法，這種方法采用的裝置結構簡單，安裝方便。

　　塵埃清除裝置介紹

　　1.Shinko公司的UVU型超聲波無水清除器

　　Shinko公司的UVU型超聲波無水清除器由兩個超聲波發生器、兩個超聲波噴嘴和一個較大的真空槽組成，它可同時產生氣刀效應和超聲波效應(如圖1-1)。

　　氣刀效應是利用雙高壓噴嘴產生的高壓氣刀，把大于50μm的雜質顆粒吹至真空槽。

　　在超聲波氣流與相對處于零速的承印材料之間可形成一個黏性分界層(Viscous Boundary Lager)，經增壓，超聲波氣流吹至黏性分界層，轉移能量至分界層，使埋藏在分界層的細小塵埃得到釋放，被吹入真空槽，達到清除細小塵埃的目的。在較高的運轉速度下，較容易清除0.003mm的塵埃。

　　2.HildeBrand公司的1000型射流表面清除器

　　HildeBrand公司的1000型射流表面清除器采用了以航空航天技術研制成的特殊輪廓的航天動力學噴嘴，能噴射出速度極高的氣流至承印材料表面。航天動力學噴嘴(見圖2-1)與承印材料之間的距離非常近，清除倉(Cleaning Module)中的真空力與紙帶速度相結合，可以產生高速氣流(>560km/h)。這種高速氣流經過噴嘴邊緣，能夠以高氣壓沖破分界層對承印材料表面雜質顆粒的束縛力，將雜質顆粒送入清除倉。

　　1000型射流表面清除器具有系統狀態及氣壓參數的監視與控制功能，它能與PLC或工業PC相互作用。該清除器具有較高的生產效率，且結構緊湊，易于安裝，適用于各類印刷機，故相對投資額較低。

　　清除倉安裝位置與支撐輥(Back-Up Roll)較為接近(見圖2-2),這對于確保清除效果是非常必要的。應具有最小的直徑和包角，以防止承印材料在高速氣流下飄動，使承印材料與噴嘴之間維持恒定距離，保證大部分塵埃顆粒不受車速影響而被清除掉。從顯微鏡中可以觀察到，大于40μm的塵埃顆粒99.7%能夠被清除掉。

　　清除倉的前端帶有離子化系統，使承印材料表面攜帶的靜電電荷消失，塵埃顆粒不再受電荷束縛。離子化發生器的控制單元裝有安全聯鎖系統，可根據需要自動關啟。

　　3.采用膠帶清除塵埃的裝置

　　德國BST公司最近推出一項以膠帶清除塵埃及雜質顆粒的新裝置——TEKNEK顆粒清除器。

　　該裝置是由兩個彈性膠輥和兩個包有膠帶的黏性輥組成，并配置了靜電消除棒。膠輥運轉時與承印材料直接接觸，靠膠輥強有力的吸附力，可迅速吸走承印材料表面的塵埃與雜質顆粒，即使是微米級以下的顆粒也不會遺漏。而后，膠輥吸附的塵埃與雜質顆粒被轉移至膠帶上。當膠帶已完全粘滿塵埃等雜質后，可以方便地更換上新的膠帶。換下的膠帶則可用于分析和評估塵埃的類別與狀態。

　　靜電消除棒既能消除承印材料表面的靜電電荷，還能防止其重新粘上塵埃。該裝置的特點是：

　　(1) 具有轉移和吸粘兩項功能，能清除1μm以下的顆粒。

　　(2) 可同時清除承印材料雙面吸附的塵埃等雜質顆粒。

　　(3) 該裝置設計緊湊，安裝簡便，只占用極小的場地。

　　(4) 黏性輥便于維護，清潔時不需要停車。

　　(5) 采用懸臂式軸承結構，穿引紙卷方便、迅速。

　　(6) 該裝置運轉時不要求紙卷同步運轉，不產生滑動，不會擦損承印材料。

　　BST公司的TEKNEK顆粒清除器可與該公司的電暈處理系統及DF型框架糾偏裝置組成一體，使三項功能同時發揮作用。

　　三項功能合一的多用組合系統設計緊湊，較易安裝在各類商標印刷機上，既能提高產品質量，減少輔助時間，降低產品損耗，又能增加產量，是窄幅多功能連線柔性版印刷機的最佳搭檔。

010-69584232